Автоматизированная шлюзовая установка плазмостимулированного осаждения слоёв из газовой фазы Caroline PECVD15

Установка поштучной обработки пластин диаметром до 200 мм. снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.

В зависимости от задач Заказчика установка может быть укомплектована подогреваемым или охлаждаемым столом.

Установка обеспечивает:

• стабилизацию заданного расхода технологических газов по четырём каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;

• автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;

• перемещения подложек из шлюза на позицию осаждения и обратно при помощи автоматического манипулятора.

Установки этого типа комплектуются:

• автоматическим согласующим устройством;

• современным многоканальным газонапуском;

• импортным химстойким турбомолекулярным насосом;

• баротроном для контроля вакуума в рабочей точке;

• установки имеют возможность комплектации лазерным контролем толщины осаждаемого слоя (опция);

• при необходимости прогрев стола до 300ºС.

Установка предназначена для производства во всех областях микроэлектроники, микромеханики, оптической промышленности и т.д.

На установке реализованы следующие технологии:

• осаждение тонких плёнок на диэлектрик с ионным ассистированием;

• осаждение диэлектриков (нитрида и оксида кремния) с хорошим качеством и равномерностью, из моносилана с кислородом и азотом при «комнатных» температурах подложки;

• осаждение разных типов плёнок (чередующихся слоёв) в одном вакуумном цикле;

• осаждение металлических плёнок (золота, меди и др. не образующих летучих соединений) путём катодного распыления в плазме инертных газов.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ/ПАРАМЕТРЫ

Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл,	1шт. до Ø 200 6шт. 60х48
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па	8х10-4
Время полного обезгаживания, мин.	200
Давление в шлюзе загрузки-выгрузки, Па	2
Время перезагрузки пластин из шлюза в рабочую камеру, мин.	2
Количество каналов рабочих газов, шт.	4
Количество каналов для работы с агрессивными газами (Cl2 SiCl4 и т.д.), шт.	до 4
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу, л/час	0÷18
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы	100:900 Вт, 13,56 МГц
Частота напряжения смещения	13,56 МГц
Мощность смещения, подаваемая на столик, Вт	до 900
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2 , %	±3
Диапазон рабочих давлений, Па	9·10-2..9·100
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота) с открытой крышкой, мм.	1450х1385х1830
Масса со стойкой питания и управления, кг.	до 1600 кг.