Caroline

Установки для напыления металлизации и резистивных пленок для производства гибридных микросхем.

Параметры		A	A1	B	B2	C
Загрузка, шт.	60х48	19	18	119	68	220
	Ø76 или Ø100	11	9	28	24	80
С двух сторон		Нет	Да	Нет	Да	Нет
Технология		Cr-Cu-Cr; Cr-Cu-Ni; PC-3710; PC-5406
Нагрев, °С		250		350
Ионная очистка		Есть
Направление нанесения		Снизу-вверх		Сбоку
Термический или ЭЛ испаритель		Опция		Не применимо
Неравномерность нанесения, %		5		10
Номинальная мощность, кВт		13	13	17	21	21
Занимаемая площадь (ДхШ), м		3,6х2,2
Необходимые коммуникации		Вода: 0,6 м3/час; Воздух: 5 атм.; O2 и Ar: 1.5 атм.