Автоматизированная шлюзовая установка плазмохимического и ионнохимического травления Caroline PE15
Назначение:
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин диаметром до 200 мм. снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.
Конструкция генератора плазмы и стола травления позволяют получать на обрабатываемых подложках потоки ионов 5÷10 мА/см.² и более с регулируемой генератором смещения подложки энергией от 20 до 300 э.В. и более.
Для улучшения теплоотвода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод», который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ/ПАРАМЕТРЫ
Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, |
1шт. до Ø 200 6шт. 60х48 |
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Время полного обезгаживания, мин. |
200 |
Давление в шлюзе загрузки-выгрузки, Па |
2 |
Время перезагрузки пластин из шлюза в рабочую камеру, мин. |
2 |
Количество каналов рабочих газов, шт. |
4 |
Количество каналов для работы с агрессивными газами (Cl2 SiCl4 и т.д.), шт. |
до 4 |
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу, л/час |
0÷18 |
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы |
100:900 Вт, 13,56 МГц |
Частота напряжения смещения |
13,56 МГц |
Мощность смещения, подаваемая на столик, Вт |
до 900 |
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2 , % |
±3 |
Диапазон рабочих давлений, Па |
9·10-2..9·100 |
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота) с открытой крышкой, мм. |
1450х1385х1830 |
Масса со стойкой питания и управления, кг. |
до 1600 кг |