Автоматизированная установка плазмохимического и ионнохимического травления Caroline PE12

Назначение:

Вакуумно-технологическая установка «CarolinePE12» предназначена для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких плёнок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках Ø до 250 мм.

Установки полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин. Снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.

Для улучшения теплоотвода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод» (дополнительная опция), который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.

 

Установка обеспечивает:

· стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;

· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;

· автоматическим согласующим устройством;

· вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью для удобства обслуживания.

 

На установке этого типа были реализованы следующие технологии:

· травление меди, золота, серебра, платины и многих других материалов ионным распылением;

· травление кремнийсодержащих слоев (оксиды, нитриды, поликремний, КНС, монокристаллический кремний), кварцевых подложек, пьезокварца со скоростями до 1 мкм/мин. с хорошим качеством поверхности на глубину более 100 мкм.;

· травление арсенида галлия, нитрида галлия, и других сложных полупроводников;

· травление любых полимерных слоев;

· превосходная очистка керамики от любых загрязнений;

· для электровакуумных приборов обработка в водородной плазме заменяет высокотемпературный водородный отжиг.

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт.	1 шт. до Ø 250
Стартовое давление в рабочей камере, Па	8х10-4
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу (л/час)	0÷9
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.	до 3
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы	100÷900 Вт, 13,56 МГц
Частота напряжения смещения	13,56 МГц
Мощность смешения, подаваемая на столик, Вт	до 900
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2 , %	±3
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па	8х10-4
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» насоса не более, мин.	120
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота), мм	1450х850х1980
Масса со стойкой питания и управления, кг.	1400