Автоматизированная установка плазмохимического и ионнохимического травления Caroline PE12
Назначение:
Вакуумно-технологическая установка «CarolinePE12» предназначена для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких плёнок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках Ø до 250 мм.
Установки полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин. Снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.
Для улучшения теплоотвода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод» (дополнительная опция), который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.
Установка обеспечивает:
· стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;
· автоматическим согласующим устройством;
· вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью для удобства обслуживания.
На установке этого типа были реализованы следующие технологии:
· травление меди, золота, серебра, платины и многих других материалов ионным распылением;
· травление кремнийсодержащих слоев (оксиды, нитриды, поликремний, КНС, монокристаллический кремний), кварцевых подложек, пьезокварца со скоростями до 1 мкм/мин. с хорошим качеством поверхности на глубину более 100 мкм.;
· травление арсенида галлия, нитрида галлия, и других сложных полупроводников;
· травление любых полимерных слоев;
· превосходная очистка керамики от любых загрязнений;
· для электровакуумных приборов обработка в водородной плазме заменяет высокотемпературный водородный отжиг.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт. |
1 шт. до Ø 250 |
Стартовое давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу (л/час) |
0÷9 |
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт. |
до 3 |
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы |
100÷900 Вт, 13,56 МГц |
Частота напряжения смещения |
13,56 МГц |
Мощность смешения, подаваемая на столик, Вт |
до 900 |
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2 , % |
±3 |
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» насоса не более, мин. |
120 |
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота), мм |
1450х850х1980 |
Масса со стойкой питания и управления, кг. |
1400 |