втоматизированная установка ионно-лучевого травления Caroline IE12

Назначение:

Вакуумно-технологическая установка «CarolineIE12» предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150х320 мм.).

Установка имеет два вертикально установленных протяженных ионных источника с размером ионного луча по вертикали 350 мм. Травление может производиться через фоторезистивную или металлическую маску.

Установка обеспечивает также:

· стабилизацию заданного расхода технологических газов по двум каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;

· вертикальное расположение ионных источников;

· вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане;

· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;

· автоматическое окончание травления пленок по заданному времени;

· размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки;

· вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства обслуживания;

· в стандартной комплектации в установке в качестве высоковакуумного насоса используется криогенный насос, который может быть заменен на турбомолекулярный или паромасляный насос (опция);

На установке этого типа были реализованы следующие технологии:

· травление резистивных пленок из материалов типа РС – 3710; РС – 5406; РС-1004;

· травление пленок титана и тантала, их оксидов и нитридов;

· травление металла, в том числе золота или меди;

· травление двуокиси кремния и нитрида кремния;

· травление диэлектрических слоёв;

· травление любых материалов распылением ионами аргона.

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт.	42шт. Ø100 мм. 112 шт. 60х48 мм.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу, л/час	0÷9
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.	2 (4-опция)
Количество ионных источников, шт.	2
Ток ионного источника (регулируется расходом газа), мА	до 500
Напряжение блока питания, КВА	1÷3
Допустима работа источников ионов на смеси газов
Допустимое давление в камере при работе ионных источников, Па	до 0,3
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па	8х10-4
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин.	120
Габаритные размеры агрегата технологического /ширина × глубина × высота/, мм.	1322х850х1800