втоматизированная установка ионно-лучевого травления Caroline IE12
Назначение:
Вакуумно-технологическая установка «CarolineIE12» предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150х320 мм.).
Установка имеет два вертикально установленных протяженных ионных источника с размером ионного луча по вертикали 350 мм. Травление может производиться через фоторезистивную или металлическую маску.
Установка обеспечивает также:
· стабилизацию заданного расхода технологических газов по двум каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
· вертикальное расположение ионных источников;
· вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане;
· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;
· автоматическое окончание травления пленок по заданному времени;
· размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки;
· вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства обслуживания;
· в стандартной комплектации в установке в качестве высоковакуумного насоса используется криогенный насос, который может быть заменен на турбомолекулярный или паромасляный насос (опция);
На установке этого типа были реализованы следующие технологии:
· травление резистивных пленок из материалов типа РС – 3710; РС – 5406; РС-1004;
· травление пленок титана и тантала, их оксидов и нитридов;
· травление металла, в том числе золота или меди;
· травление двуокиси кремния и нитрида кремния;
· травление диэлектрических слоёв;
· травление любых материалов распылением ионами аргона.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт. |
42шт. Ø100 мм. 112 шт. 60х48 мм. |
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу, л/час |
0÷9 |
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт. |
2 (4-опция) |
Количество ионных источников, шт. |
2 |
Ток ионного источника (регулируется расходом газа), мА |
до 500 |
Напряжение блока питания, КВА |
1÷3 |
Допустима работа источников ионов на смеси газов |
|
Допустимое давление в камере при работе ионных источников, Па |
до 0,3 |
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. |
120 |
Габаритные размеры агрегата технологического /ширина × глубина × высота/, мм. |
1322х850х1800 |