Количество и размер подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт.

96 шт. Ø100 мм.

176 шт. 60х48мм.

Автономное управление заслонками на позициях напыления

Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу (л/час)

0÷9

Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.

до 3

Количество устройств ионной очистки изделий

1

Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов

Возможна установка магнетронов, шт.

до 4

Тип магнетронов для напыления пленок

Импульсный среднечастотный

Рабочий ток магнетронов регулируемый, А

0,5÷15 (30-опция)

Рабочее напряжение магнетронов, В

до 650

Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм.

749х100х6÷15

Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па

0,07÷0,3

Мощность генератора смещения, КВА

4

Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц

опция

Диапазон контроля сопротивления свидетеля кОм)

0,2÷20

Погрешность измерения сопротивления, %

±1

Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (max 300°С)

50÷250

Нестабильность температуры подложек, %

±5

Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па

8х10^-4

Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин.

120

Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота) с поднятой камерой, мм

1450х1660х3130

Масса со стойкой питания и управления, кг.

до 1850