Количество подложек обрабатываемых за 1 цикл, шт.

20 позиций Ø80 мм. высотой до 400мм.

Автономное управление заслонками на всех позициях напыления

Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу (л/час)

0÷9

Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.

3

Количество устройств ионной очистки изделий

1

Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов

опция

Возможна установка магнетронов, пар

до 4

Тип магнетронов для напыления пленок

Импульсный среднечастотный

Рабочий ток магнетронов регулируемый, А

3÷30

Рабочее напряжение магнетронов, В

до 650

Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм.

440х100х6÷15

Допустимое давление в камере при работе магнетронов (Па)

0,07÷0,3

Мощность генератора смещения, КВА

4

Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц

100÷1000 В

Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (при подаче смещения может достигать max 700°С)

50÷250

(350 опция)

Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па

8х10^-4

Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин.

120

Габаритные размеры агрегата технологического /ширина × глубина × высота/ с поднятой камерой, мм.

2350×2000×2980

Масса со стойкой питания и управления, кг.

до 2500