Установка магнетронного напыления Caroline D12B1
Назначение:
Вакуумно-технологическая установка Caroline D12B1 предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150х350 мм.).
Установка комплектуется 7-ю магнетронами, которые установлены 4 шт. внутри барабана и 3 шт. снаружи в специальных дверях. Таким образом, напыление ведётся вертикально, нанося материал на внешнюю и внутреннюю стороны носителей вращающихся на барабане.
Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы Cu, Cr, Ni, Al и т.п.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Количество подложек обрабатываемых за 1 цикл · при двусторонней загрузке · при односторонней загрузке |
70шт. 60х48; 48 шт. Ø100 мм, 28 шт. Ø 150мм, 111 шт. 60х48 мм |
Автономное управление заслонками на позициях напыления (одновременно могут быть открыты пары магнетронов в позициях 1 и 3 либо в позициях 2 и 4) |
|
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу (л/час) |
0÷9 |
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт. |
до 3 |
Количество устройств очистки изделий, шт. |
2 |
Возможна установка магнетронов, шт. |
до 7 |
Тип магнетронов для напыления пленок |
Импульсный среднечастотный |
Рабочий ток магнетронов регулируемый, А |
0,5÷15 (30-опция) |
Рабочее напряжение магнетронов, В |
300÷650 |
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм. |
440х100х6÷15 |
Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па |
0,07÷0,3 |
Диапазон контроля сопротивления свидетеля, кОм |
0,2÷20 |
Погрешность измерения сопротивления, % |
±1 |
Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (макс. 300°С) |
50÷250 |
Нестабильность температуры подложек, % |
±5 |
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. |
120 |