Irida

Установки напыления металлов и травления для полупроводниковой микроэлектроники

Параметры

D21A

PE

Загрузка, шт. Ø76 4
Ø200 1
Технология W, Cr-Au, Cr-Cu, Cr-Cu-Au, Ti-Pt-Au RIE, PE
Нагрев, °С 300 нет
Устройства для обработки 3 магнетроны и источник ионов* TCP антенна
Направление обработки Сверху вниз
Неравномерность, % 3
Способ загрузки Опции: шлюз или перегрузчик
Номинальная мощность, кВт 10
Занимаемая площадь (ДхШ), м 4х2
Необходимые коммуникации Вода: 0,6 м3/час; Воздух: 5 атм.; O2 и Ar и др.: 1.5 атм.
Стоимость, тыс. руб    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

* - запатентованная конструкция источника нанесения и ионной обработки (патент №2490369)